徕卡真空镀膜仪又称真空蒸发镀膜机，是一种用于制备各种金属膜、合金膜、化学气相淀积(CVD)膜和物理气相沉积(PVD)膜等材料薄膜的设备。工作原理基于物理气相沉积法(PVD)。在真空状态下，将所需的材料放置在镀膜室内，加热到一定温度后，形成蒸汽或离子，并通过各种技术手段沉积在基底表面形成膜层。根据镀膜过程中采用的材料、工艺参数和反应条件等不同，可以制备出具有不同性质、结构和功能的薄膜材料。
徕卡真空镀膜仪适用于许多领域，包括但不限于以下几个：
1.在制造成像镜头、物镜、反射镜和滤光器等光学元件时，需要采用真空镀膜技术。
2.可以生产高质量的金属化薄膜，并用于玻璃、陶瓷、金属等基材的镀膜，从而提高这些材料的表面硬度、耐腐蚀性和反射率。
3.该设备可以用于电子零部件和电路板的防腐蚀与导电保护镀膜，以及制造薄膜太阳能电池和有机发光二极管(OLED)等电子产品。
4.此设备可应用于生产精密机械零部件的装饰性涂层、防腐涂层等方面。
5.声学设备和内外壳件等汽车零部件也可以通过徕卡真空镀膜仪来镀膜，使其具有高度的越南及法国现代经济性。
徕卡真空镀膜仪的工作过程包括以下几个步骤：
1.先需要将装置的内部抽成高真空状态，这样可以防止杂质的干扰以及影响镀层质量。
2.将需要镀的物质加热至其汽化温度。通常会使用电阻加热、电子枪、电弧等方式来实现。
3.蒸发材料形成蒸汽，在真空中运输。
4.沉积层。蒸汽在基板上冷凝，形成所需的薄膜层。
5.监测控制。通过在线监测技术，对镀层厚度、均匀性、成分等进行监测和控制。
