徕卡真空镀膜仪的这些特点你都清楚吗?

更新时间:2023-07-12      点击次数:1568
  徕卡真空镀膜仪的工作原理可以简单地理解为,将需要镀膜的光学元件放置在真空室内,并加热至一定温度。然后通过控制真空室的气压,使各种金属、合金、化合物等材料以蒸气的形式沉积在光学元件表面,形成薄膜。通过控制沉积速率和时间,得到所需的膜厚和光学性能。
 
  徕卡真空镀膜仪具有以下几个特点:
 
  高纯度材料:使用的镀膜材料具有高纯度,能够保证薄膜的质量和稳定性。这对于要求高精度光学元件的制造非常重要。
 
  高均匀性:采用特殊的蒸发源和镀膜工艺,能够实现薄膜在光学元件表面的均匀沉积。这样可以避免膜层不均匀带来的光学性能降低的问题。
 
  快速速度:具有镀膜速度,可在短时间内完成大面积光学元件的镀膜作业。这对于大规模生产有很大的优势。
 
  多功能性:可以针对不同的光学元件和应用需求,灵活调整镀膜材料和工艺参数,实现多种薄膜镀积,如增透膜、反射膜、滤光膜等,满足不同光学性能要求。
 
  可控性:具有强大的控制系统,能够控制薄膜的厚度、均匀性和光学性能。这可以根据实际需要进行调整,以满足不同的应用需求。

徕卡真空镀膜仪

 


 
  徕卡真空镀膜仪的操作使用步骤:
 
  1.将待镀膜物品清洗干净,并确保表面无尘与油污。
 
  2.将待镀膜物品放置在镀膜仪的样品台上。
 
  3.按照设备说明书,启动真空镀膜仪,启动后等待设备真空化。
 
  4.当设备真空度达到要求时,切换到需要的镀膜气源(如氮气、氧化锆气体等)。
 
  5.根据所需的镀膜工艺参数,设定相应的电流、电压、时间等参数,再开始进行镀膜操作。
 
  6.镀膜操作完成后,关闭镀膜气源,停止镀膜过程。
 
  7.放出真空度后,将镀膜物品取出,进行检查与测试。
 
  徕卡真空镀膜仪的维护保养方法:
 
  1.定期清洁设备内外表面,确保无尘污,防止污物影响镀膜效果。
 
  2.定期给设备的活动部件润滑,以保持运行顺畅。
 
  3.严禁设备碰撞,防止设备损坏或影响镀膜质量。
 
  4.注意操作规程,避免错误操作导致设备故障。
 
  5.定期检查设备各部件的工作状态,确保设备正常运行。
 
  6.对发现的设备故障及时维修,避免其进一步恶化。
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