Leica EM ACE200真空镀膜仪的技术参数

发表时间:2022-05-20      点击次数:179
真空镀膜仪主要用来在非导电材料表面蒸发或者溅射沉积纳米导电薄膜,用来提高样品的表面导电性能,同时由于厚度仅为几个纳米,可以很好保持样品原始的表面形貌。
 
Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪,可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能,或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求,也可用于X-射线能谱及波谱分析,或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等全过程,一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制,简单方便。
 
主要技术参数:
 
· 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式,或者双模式,可选辉光放电(用于网格表面亲水化)
· 设计脉冲式碳丝蒸发方式,可精确控制碳膜厚度
· 可选石英膜厚检测器,精确控制镀膜厚度,精度达0.1nm
· 全自动程序控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等过程
· 触摸屏控制,简单方便
· 真空度7×10-3mbar
· 溅射电流:0-150mA可调
· 方形样品仓设计,样品仓尺寸:140mm(宽)×145mm(深)×150mm(高)
· 工作距离调节范围:30mm-100mm
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