真空金属镀膜技术是在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体上凝固并沉积的方法。
真空镀膜仪是一款多功能型真空镀膜系统设备，用于制备超薄、细颗粒的导电金属膜和碳膜，以适用于FE-SEM和TEM超高分辨率分析所需的镀膜要求。
Leica EM ACE200真空镀膜仪是一款低真空镀膜仪，可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能，或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求，也可用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制，简单方便。
主要技术参数：
可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，可选辉光放电（用于网格表面亲水化）
设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度
可选石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm
全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程
触摸屏控制，简单方便
真空度7×10-3mbar
溅射电流：0-150mA可调
方形样品仓设计，样品仓尺寸：140mm（宽）×145mm（深）×150mm（高）
工作距离调节范围：30mm-100mm
