Leica EM ACE200真空镀膜仪具有哪些特点?

更新时间:2023-09-12      点击次数:335
真空金属镀膜技术是在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体上凝固并沉积的方法。
 
真空镀膜仪是一款多功能型真空镀膜系统设备,用于制备超薄、细颗粒的导电金属膜和碳膜,以适用于FE-SEM和TEM超高分辨率分析所需的镀膜要求。
 
Leica EM ACE200真空镀膜仪是一款低真空镀膜仪,可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能,或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求,也可用于X-射线能谱及波谱分析,或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等全过程,一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制,简单方便。
 
主要技术参数:
 
可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式,或者双模式,可选辉光放电(用于网格表面亲水化)
设计脉冲式碳丝蒸发方式,可精确控制碳膜厚度
可选石英膜厚检测器,精确控制镀膜厚度,精度达0.1nm
全自动程序控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等过程
触摸屏控制,简单方便
真空度7×10-3mbar
溅射电流:0-150mA可调
方形样品仓设计,样品仓尺寸:140mm(宽)×145mm(深)×150mm(高)
工作距离调节范围:30mm-100mm
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